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Thomson R&D France, 1, avenue Belle Fontaine – CS 17616 35576 Cesson-Sévigné – France J. Birnstock, M. Hofmann, P. Wellmann Novaled GmbH, Zellescher Weg 17, 01069 Dresden – Germany Yung-Hui Yeh,Yu-Rung Liu,Lieh-Chiu Lin, Bou-Chi Chang ITRI/ERSO: E1500 Bldg. 15,195,Sec.4, Chung Hsing Rd. Chutung, Hsinchu, Taiwan 310, R.O.C. 本文描述了一种基于掺杂电荷注入层的高性能新型OLED器件结构。将这些结构应用在激光退火多晶硅3.25寸QVGA主动驱动矩阵显示上,器件表现出较低的驱动电压。显示亮度为120cd/m2时,整体驱动电压低于7V,功耗为280mW。
本文中的PIN-OLED(包含一个P型掺杂的空穴传输层,一个本征传导发光层,和一个N型掺杂电子传输层的OLED)器件结构:一个P-掺杂空穴传输层(NDP-2 ),阳极,第一个中间层,发光层,第二个中间层(铯掺入BPhen),一个N-掺杂电子传输层,阴极。
 图1 P型驱动背底上制备底发射和顶发射器件的电压-电流-亮度曲线

图2 140 0C温度处理下ITO阳极薄膜表面形貌AFM图

图3 所得样品屏显示图片
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